一、工作原理

光學(xué)清洗機主要利用超聲波或等離子體技術(shù)實現(xiàn)高效清洗：

• 超聲波清洗機：通過超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振蕩信號，經(jīng)換能器轉(zhuǎn)換為高頻機械振動并傳播至清洗液中。超聲波在液體中產(chǎn)生微小氣泡，氣泡在負壓區(qū)形成、正壓區(qū)閉合時形成高壓沖擊波，連續(xù)沖擊工件表面，使污垢迅速剝落。

• 等離子體清洗機：通過高壓或射頻電場將氣體激發(fā)為等離子體，其中包含的離子、電子、自由基等活性粒子與光學(xué)元件表面污染物發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)。離子轟擊剝離污染物，自由基分解有機物為無害氣體，實現(xiàn)高效清洗。

二、分類與特點

1. 超聲波光學(xué)清洗機

• 特點：清洗速度快、效率高，對工件表面無損傷；可清洗深孔、細縫和隱蔽處；節(jié)省溶劑、熱能、場地和人工；清洗精度高，能強力清除微小污漬。

• 優(yōu)勢：適用于光學(xué)元件鍍膜前后及裝配前的工序間清洗，可配置循環(huán)過濾、自動恒溫、拋動系統(tǒng)，采用環(huán)保水溶劑和純水漂洗，實現(xiàn)高效、環(huán)保的清洗過程。

2. 等離子體光學(xué)清洗機

• 特點：清洗效率高（部分設(shè)備可達99.9%），可實現(xiàn)全方位無死角清洗，深入微細孔洞和縫隙；清洗過程中不損傷元件表面，不改變光學(xué)性能和化學(xué)性質(zhì)；無需化學(xué)溶劑，避免環(huán)境污染，節(jié)能效果顯著。

• 優(yōu)勢：適用于對清潔度要求極高的光學(xué)元件，如半導(dǎo)體光刻掩模板、高精度光學(xué)透鏡等。